實驗室真空鍍膜設備采用封閉的系統(tǒng)框架，外觀漂亮，使用安全。4～12組蒸發(fā)源可兼容金屬、有機物蒸發(fā)。廣泛應用于高校材料、物理、化學、電子、能源等相關學科以及科研院所制備高質(zhì)量功能薄膜、蒸鍍電極等，特別適合OPV/鈣鈦礦/無機薄膜太陽能電池、半導體、有機EL、OLED顯示研究與開發(fā)領域。
主要特點/優(yōu)勢：
★ 封閉的系統(tǒng)框架設計，外觀更漂亮，使用更安全；是一臺兼具美學和用戶操控體驗的全新升級產(chǎn)品；
★ 前開門真空腔體，方便取放基片、更換蒸發(fā)舟、添加蒸發(fā)材料以及真空室的日常維護；
★ 1200L/s分子泵作為主抽泵，真空極限高達8×10-5Pa(6×10-7Torr)；另可選進口磁懸浮分子泵或者低溫泵作為主抽泵，真空極限高達3×10-6Pa(2×10-8Torr)；
★ 4～12組水冷式蒸發(fā)電極，可長時間穩(wěn)定工作，兼容金屬材料與有機材料的蒸發(fā)源設計，源間有防止交叉污染隔板；
★ 專業(yè)真空蒸發(fā)電源，恒流/恒功率控制。電流、功率可以預先設置，可實現(xiàn)一鍵啟動和停止的自動控制功能；
★ 最大140mm基片/15～25mm ITO/FTO玻璃25片/球形樣品架，可定制一體化高精度刻蝕掩膜板；基片臺公轉(zhuǎn)，轉(zhuǎn)速0～25rpm連續(xù)可調(diào)；
★ 襯底可選擇加熱或水冷，源基距最大350mm；
★ 更優(yōu)的薄膜均勻性和重復性，采用進口膜厚監(jiān)控儀在線監(jiān)測和控制蒸發(fā)速率、膜厚；
★ 可沉積金屬(Au, Ag, Al, Ca, Cu, Mg, Fe, Cr, Ni等)、非金屬、化合物(MoO3, LiF等)及有機物材料，可拓展沉積單層膜、多層膜及混合膜；
★ 設備集成度高，結(jié)構緊湊，占地面積小(1.28平米)；設備配腳輪，方便移動和定位。
產(chǎn)品型號：
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