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全封閉顯影機

簡要描述：全封閉顯影機主要用于半導體制造中晶片的顯影工藝，性價比高，穩(wěn)定性好，重復性好，對顯影作業(yè)有非常理想的效果。設備配有一路顯影和一路水、一路氣吹功能，并且噴嘴位置可程控移動，實現(xiàn)自動顯影和清洗作業(yè)。

  • 產(chǎn)品型號：DM200-SE
  • 廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
  • 更新日期：2024-08-06
  • 訪  問  量：2131
　　全封閉顯影機優(yōu)勢
 
　　·全封閉式顯影，避免霧氣擴散到外部，污染環(huán)境。
 
　　·外殼噴塑，耐腐蝕，易清洗。
 
　　·內(nèi)腔鍍特氟龍，光滑，耐腐蝕，易清洗。
 
　　·內(nèi)置真空過濾器，防止液體吸入真空泵。
 
　　·真空壓力可調(diào)，壓力值實時顯示。
 
　　·液體流量可調(diào)，回吸可調(diào)。
 全封閉顯影機
　　全封閉顯影機參數(shù)
 
　　支持wafer尺寸：碎片至200mm(8"圓晶)
 
　　·轉(zhuǎn)速分辨率：±1 RPM
 
　　·旋涂速度：20-3000rpm(空載)
 
　　·旋涂加速度：10-10,000rpm/sec(空載)
 
　　·工藝時間設定： 0-3,000sec/step，時間設置精度： 0.1sec
 
　　·該機型適用于標準3路顯影機(1路洗衣液，1路純水，1路氮氣)
 
　　·單步工藝及多步工藝可選，內(nèi)置100組可編輯程序
 
　　·可根據(jù)客戶需求定制四管路顯影機或更大基片的顯影機。
 
　　設備配有一路顯影和一路水、一路氣吹功能，并且噴嘴位置可程控移動，實現(xiàn)自動顯影和清洗作業(yè)。
 
 

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